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AMAYA天谷制作所MOCVD 氣相沉積設備; Doctor-TTM ? 8 英寸晶圓兼容 ? 可 沉積金屬氧化膜、金屬氮化膜等 ? 采用 磚利無氯氣化器 ? 擁有 4 種 MO 材料線 ? 單室/雙腔室 可選
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156mm 方形/小時 1500 張吞吐量 ? 通過采用 SiC 托盤解決重金屬污染問題， 以及通過改進托盤支架進行背面旋轉措施 氣相沉積設備
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● 低溫 （150~300°C） 處理 ● 形成 高品質的SiO2膜 低應力 、 無等離子體損傷 、 小顆粒 ? 降低 導入和維護成本 小占地面積 、 無需 真空 · 等離子體處理 ● 價格低廉 氣相沉積設備
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氣相沉積設備 ● ±2%以內的膜厚均勻性 ● 低溫工藝對應 ● 抑制 顆粒產生 ● 提高 維護性 ● 緊湊的裝置結構 ● 提高 **性 ● 良好的臺階覆蓋性
