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Otsuka大塚電子在線膜厚測量厚度計塔瑪薩崎電子代理銷售 該裝置可以測量薄膜的整個寬度和總長度，用于在線薄膜生產現場。 通過將新開發的高精度薄膜厚度計算技術與專有光譜干涉方法相結合，可以在每 0.01 秒的測量間隔內測量 500mm 寬度（使用一臺）的薄膜厚度。
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Otsuka大塚電子 RETS延遲測量設備 它是一種延遲測量設備，適用于所有薄膜，包括 OLED 偏振板、層壓緩速膜和帶 IPS 液晶緩速膜的偏振板。 實現超高Re.60000nm的高速、高精度測量。 薄膜的層壓狀態可以通過“無剝離、無損”進行測量。 此外，它還配備了簡單的軟件和校正功能，通過重新放置樣品來糾正偏差，從而輕松實現高精度測量。
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塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司江蘇代理大塚電子 OPTM-A1膜厚計 OPTM（Optim）是一種利用顯微分光在微區域進行**反射率測量，可實現高精度薄膜厚度和光學常數分析的裝置。 涂層膜的厚度和多層膜（如各種薄膜、晶圓和光學材料）可以無損或非接觸式測量。 測量時間可以高速測量 1 秒/點。 此外，它配備了一個軟件，即使是初學者可以很容易地分析光學常數。
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塔瑪薩崎代理Otsuka大塚多通道光譜儀 MCPD-6800 MCPD-6800 是光譜測量和分析的基本系統。 即時測量光譜，自由組裝測量光學系統和多種選項，可根據各種目的進行系統升級。 測量波長范圍有四種類型可供選擇。
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多功能多通道光譜探測器，支持從紫外到近紅外區域。 光譜測量可在 5 毫秒內進行。 標準儀器的光纖支持各種測量系統，無需識別樣品類型。 除了顯微分光、光源發射、透射和反射測量外，它還與軟件相結合，支持物體顏色評估和薄膜厚度測量。
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它是一種延遲測量設備，適用于所有薄膜，包括 OLED 偏振板、層壓緩速膜和帶 IPS 液晶緩速膜的偏振板。 實現超高Re.60000nm的高速、高精度測量。 薄膜的層壓狀態可以通過“無剝離、無損”進行測量。 此外，它還配備了簡單的軟件和校正功能，通過重新放置樣品來糾正偏差，從而輕松實現高精度測量。
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特點 使用靜態光散射法測量優良分子量、慣性半徑和第 二維系數是可能的。 可以對 Zimm 繪圖、伯利圖、Zimm 平方根圖、單濃度圖和 Debye 圖進行各種分析。 系統將詢問您如何安排您的會議。 可選的桿單元支架可實現光纖材料（散裝）的優良散射強度測量。
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使用動態光散射方法測量顆粒大小和顆粒大小分布（顆粒大小和顆粒大小分布）是可能的。 您可以選擇 He-Ne 激光、固態激光和雙激光規格。 相關計高達 4096ch，可實現多模式分析，如聚合物濃縮溶液。 與可選的凝膠旋轉單元結合使用時，可以分析凝膠狀態。
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特點 使用動態光散射法測量顆粒大小和顆粒大小分布（顆粒大小和顆粒大小分布），并使用靜態光散射方法測量優良分子量、慣性半徑和第 二維真實系數。 您可以選擇 He-Ne 激光、固態激光和雙激光規格。 采用浸入式細胞光學系統，可以高精度地測量微弱散射的納米級粒子。 相關計高達 4096ch，可實現多模式分析，如聚合物濃縮溶液。 與可選的凝膠旋轉單元結合使用時，可以分析凝膠狀態。
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散射角度為0.33~45°的測量*短為10msec※可以測量 評估亞微米至數百微米的結構 使用專用電池測量溶液樣品 在軟式 Hv 散射和 Vv 散射測量中輕松切換 桌面類型，可安裝在實驗室中 ※不使用HDR功能時
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一臺儀器可輕松連續測量 5 個樣本，無需自動采樣器即可實現 多個樣本的連續測量，也可以通過改變每個樣本的條件進行測量。 支持從稀釋到厚系統 標準測量時間 1 分鐘的高速測量 自動調整從厚系統到稀薄樣品的*佳測量位置，實現約 1 分鐘的高速測量 簡單易懂的測量功能（只需單擊一下即可 開始測量），無需復雜的操作 內置非浸沒式細胞塊，無分包的無孔， 每個細胞都是獨立的，因此無需擔心不成問題。 配備 溫度梯度功能，可輕松設置溫度
