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產品詳情
簡單介紹：
RIE-200C 是一種盒式設備，用于大規模生產，基于 RIE-10NR 的經驗，該設備具有豐富的平行平板 RIE 設備交付記錄。
詳情介紹：
概述
RIE-200C 是一種盒式設備，用于大規模生產，基于 RIE-10NR 的經驗，該設備具有豐富的平行平板 RIE 設備交付記錄。 該器件可對各種硅薄膜（如 Si、Poly-Si、SiO+ 和 SiN）進行高精度蝕刻和灰化。 采用雙盒式、雙臂機器人，可實現高吞吐量，是PLC控制下全自動運行和過程參數保存的高性能裝置。
特點
配備大氣盒室
盒式設備廢除了通常配備的負載鎖室，并配備了大氣盒室和大氣輸送機器人。 可自動處理高達 ±8 英寸的晶圓，并可安裝 2 個盒式磁帶。
全自動駕駛
操作通過觸摸屏實現全自動運行 ，通過PLC控制可進行過程管理和數據記錄。
應用示例
? 各種硅薄膜的高精度蝕刻，如 Si、Poly-Si、SiO+ 和 SiN
光刻膠灰化
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