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產品詳情
簡單介紹：
高密度等離子蝕刻裝置，采用電感耦合等離子體（工業塑料廣場）作為放電形式。 該裝置是一種全 面生產設備，具有真空盒室，具有優異的工藝可重復性和穩定性。 它成為直徑為 ±4 英寸的晶圓專用設備，可以安裝在節省空間的地方。
詳情介紹：
概述
高密度等離子蝕刻裝置，采用電感耦合等離子體（工業塑料廣場）作為放電形式。 該裝置是一種全 面生產設備，具有真空盒室，具有優異的工藝可重復性和穩定性。 它成為直徑為 ±4 英寸的晶圓專用設備，可以安裝在節省空間的地方。
特點
新型ICP源「HSTC?： Hyper Symmetrical Tornado Coil」
高射頻功率（2 kW 或更高）可高效、穩定地應用，以實現良好的均勻性。
大流量排氣系統
通過采用與反應室直接相連的排氣系統，實現了從小流量、低壓區域到大流量、高壓范圍的各種工藝窗口。
支持端點監視器
它支持干涉型和發光光譜端點監視器，可在目標薄膜厚度下進行端點檢測。
易于維護的設計
TMP（渦輪分子泵）和高頻電源單元化，便于更換。
應用示例
? 高精度加工化合物半導體，如 GaN、GaAs 和 InP
?高速加工SiC、SiO
? 蝕刻難蝕刻材料，如鐵電體（PZT、BST、SBT、BT）和電極材料（Pt、Au、Ru、Al）
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