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產品詳情
  • 產品名稱:SAMCO ICP 蝕刻設備 RIE-800iPC

  • 產品型號:
  • 產品廠商:SAMCO薩姆肯
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簡單介紹:
高密度等離子蝕刻裝置,采用電感耦合等離子體(工業塑料廣場)作為放電形式。 該裝置是一種全 面生產設備,具有真空盒室,具有優異的工藝可重復性和穩定性。
詳情介紹:

是一種全  面生產設備,具有真空盒室,具有優異的工藝可重復性和穩定性。

特點

新型ICP源「HSTC?: Hyper Symmetrical Tornado Coil

射頻功率(2 kW 或更高)可高效、穩定地應用,以實現良好的均勻性。

大流量排氣系統

通過采用與反應室直接相連的排氣系統,實現了從小流量、低壓區域到大流量、高壓范圍的各種工藝窗口。

下部電極升降機構

優化晶圓和等離子體之間的距離,確保良好的平面內均勻性。

易于維護的設計

TMP(渦輪分子泵)和高頻電源單元化,便于更換。

應用示例

? 高精度加工化合物半導體,如 GaN、GaAs 和 InP

?高速加工SiC、SiO

? 蝕刻難蝕刻材料,如鐵電體(PZT、BST、SBT、BT)和電極材料(Pt、Au、Ru、Al)

化合物半導體晶圓的等離子切割,薄型化

選項

難蝕刻材料用特殊電極機構

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