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  • 產品名稱:UV照射裝置 ORC歐阿希 HMW-615N-4

  • 產品型號:
  • 產品廠商:ORC歐阿希
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簡單介紹:
UV照射裝置 ORC歐阿希 HMW-615N-4UV照射裝置 ORC歐阿希 HMW-615N-4UV照射裝置 ORC歐阿希 HMW-615N-4 ?????塔瑪薩崎電子(蘇州)有限公司系 京都玉崎(日本)株式會社全資設立的中國子公司,自2014年成立以來,迅速崛起,專業從事國內貿易/國際貿易業務,主要經營光學設備、電子計測儀器、科學儀器、機械加工設備、環境試驗設備、PC周邊用品、作業工具用
詳情介紹:

UV照射裝置


UVドラィプロセッサー

半導體製造プロセス、液晶基板製造プロセス等微細なパターンを形成する工程において、基板の表面に殘る有機物に、UVを照射して有機物汚染を非接觸で除去する裝置です。基板イダメージを與えずに表面の洗浄と改質が出來ます。

HMW-615N
 

VUM-3073F

◆ 特 徴

1. 基板にダメージが少なく、有機物を分解する能力の高い獨自の低圧UVランプを搭載しています。
2. 基板を揺動するモードを利用すると、基板にUV光量が均等に照射されます。
3. 基板はあまり加熱されません。
4. オゾンをカットする照射方式も、窒素ガスをパージする照射方式も適用できます。

◆ 仕 様

型式 HMW-615N-3 HMW-615N-4 VUM-3073F
使用ランプ 低圧UVランプ
VUV-080/A-3.6U?5燈
低圧UVランプ
VUV-100/A-5.3U?7燈
低圧UVランプ
VUV-040/A-2.2U?4燈
照射距離 25mm 25mm 15mm
照射面積 300W X 300D 400W X 400D 200W X 200D
照射時間 0~10min(可変) 0~99min59sec(可変)
排気????除去 オゾン分解用フィルター使用
外形寸法 750W X 700DX 1,435H 180kg 580W X 500DX 240H 25kg

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