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使用 172 nm 的低波長紫外線，可以在更高的海拔和更短的時間內進行 UV 處理。 -由于親水性，提高了各種表面的潤濕性、粘附性和粘附性。 -用于光學玻璃、晶圓、基板等表面的清洗，提高聚酰亞胺等難粘塑料的附著力。
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使用 185nm 和 254nm 光能去除納米級有機物污漬使用 185nm 和 254nm 光能去除納米級有機物污漬使用 185nm 和 254nm 光能去除納米級有機物污漬
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臺式表面處理裝置使用 172nm 光能去除納米級有機物污漬臺式表面處理裝置使用 172nm 光能去除納米級有機物污漬臺式表面處理裝置使用 172nm 光能去除納米級有機物污漬
