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塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

使用 185nm 或 254nm 光能去除納米級有機物污漬
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

使用 185nm 和 254nm 光能去除納米級有機物污漬
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

配備滑動快門光源的表面處理。
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185nm 和 254nm 光能去除納米級有機物污染輸送機式裝置可均勻進行紫外線處理
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

使用 185nm 和 254nm 光能去除納米級有機物污漬
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

使用 185nm 和 254nm 光能去除納米級有機物污漬或改性材料表面
塔瑪薩崎

185nm 和 254nm 光能可去除納米級有機物污漬，某些材料具有表面改性效果。
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

使用 185nm 或 254nm 的光能去除納米級有機物污漬使用無臭氧燈在 254nm 時用作**光源。
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

該設備使用 185nm 和 254nm 的紫外線能量去除工件表面的污垢。因為它是掃描儀類型，它可以均勻地紫外線照射。
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

它是在真空狀態下對185nm和254nm進行輻照處理的裝置。
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

該裝置使用 185nm 和 254nm 的紫外線能量去除工件表面的污垢，因為它是滑動的，因此很容易進出工件。
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

185nm 或 254nm UV 去除工件表面的污垢。
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

使用 185nm 和 254nm 光能去除納米級有機物污漬
SEN日森光化學反應容器

SEN日森光化學反應容器VG500 VG100 VG300 VG500-4 VG1000 VG1500 塔瑪薩崎（蘇州）電子有限公司
SEN日森光化學反應器分體式

SEN日森光化學反應器分體式反應釜：VG1500-13 / 電源：HB400P-1 塔瑪薩崎（蘇州）
SEN日森高壓燈2kW PC2000

SEN日森高壓燈2kW PC2000 塔瑪薩崎（蘇州）電子有限公司

蘇公網安備 32050502000409號

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