samco inc. - サムコ株式會(huì)社

samco inc. - サムコ株式會(huì)社以“用薄膜技術(shù)為世界產(chǎn)業(yè)科學(xué)做出貢獻(xiàn)”為經(jīng)營理念，以重視創(chuàng)造性、采用直銷體制、積極認(rèn)識(shí)事業(yè)在社會(huì)中發(fā)揮的作用為經(jīng)營方針，開展事業(yè)。

以化合物半導(dǎo)體為中心的光電子領(lǐng)域、高頻器件領(lǐng)域、電子零件領(lǐng)域?yàn)橹行模M(jìn)一步擴(kuò)大面向生產(chǎn)用途的裝置的銷售，向以中國市場為首的海外市場積極展開。

在京都的研究開發(fā)中心和美國硅谷的奧普托菲爾姆斯研究所進(jìn)行研究開發(fā)。其中，我們將盡快啟動(dòng)與薄膜事業(yè)相關(guān)的新事業(yè)、新領(lǐng)域，為社會(huì)做出貢獻(xiàn)。

samco inc. - サムコ株式會(huì)社半導(dǎo)體制造裝置入門


什么是半導(dǎo)體

所謂化合物半導(dǎo)體

二極管

晶體管，晶體管

集成電路

節(jié)能貢獻(xiàn)

半導(dǎo)體制造裝置

關(guān)于裝置

所謂半導(dǎo)體制造裝置

什么是CVD裝置

所謂干蝕刻裝置

所謂干洗裝置

高性能化等離子清潔器

什么是真空

了解真空

真空的必要性

真空測量

真空容器從大氣受到力

真空壓力與氣體容積的關(guān)系

什么是等離子體

什么是等離子體

身邊的等離子

將等離子體運(yùn)用于技術(shù)

請看用武士制造的半導(dǎo)體制造裝置。

CVD裝置

進(jìn)行防水、絕緣等處理

干法刻蝕裝置

進(jìn)行精密的加工

干洗裝置

污染并清洗表面

Samco的ICP蝕刻系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)。

• 高蝕刻率
• 優(yōu)良的均勻性
• 優(yōu)異的基板直流偏壓和離子能量控制能力
• 通過ESC**控制晶圓溫度，從-10oC到+200oC。
• 廣泛的工藝庫

SiC功率器件、GaN射頻器件、MicroLEDs、激光二極管、GaAs VCSEL、SAW/BAW濾波器、電容器、MEMS器件等**技術(shù)，在未來的十年中被賦予了更多的期待。作為此類器件材料的化合物半導(dǎo)體的微細(xì)加工需要高精度的干式等離子體蝕刻工藝。Samco先進(jìn)的電感耦合等離子體(ICP)蝕刻系統(tǒng)非常熟悉化合物半導(dǎo)體器件的加工。ICP蝕刻系統(tǒng)的等離子體密度是傳統(tǒng)的電容耦合等離子體反應(yīng)離子蝕刻（CCP-RIE）系統(tǒng)的1000倍。它們能夠?qū)崿F(xiàn)更廣泛的工藝。然而，要在ICP蝕刻系統(tǒng)中獲得均勻的等離子體并不容易。Samco公司開發(fā)了具有三維結(jié)構(gòu)的ICP線圈 "Tornado ICP?"，它能夠形成高度均勻的等離子體。
為了提高Tornado ICP?的可靠性和性能，Samco進(jìn)行了電磁場模擬。通過這些模擬，我們找出了實(shí)現(xiàn)*佳均勻性的*佳配置。Tornado ICP?蝕刻系統(tǒng)不僅在化合物半導(dǎo)體上，而且在硅和金屬薄膜上也實(shí)現(xiàn)了高度均勻、高速、高長寬比的蝕刻，被各行業(yè)的許多工廠和研究室所使用。